溅射陶瓷薄膜，陶瓷靶材致密度是不是越高好？
我用了99.99的氧化铝靶材溅射薄膜，靶材密度估算是3.6；可惜没有溅射下来。
寻找原因：
1、背板与靶材的有沾牢固。
2、功率最大用到200W。
3、百分之十的氧氩混合气。
4、基台500摄氏度。
5、靶材开裂，靶材厚度1.5mm
突发想法，靶材致密度越高，会不会影响溅射？
请大家提提意见，
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一般是绑定结合不好导致靶材表面热量不能快速导出，溅射过程不能顺利进行。
如果有射频电源，建议溅射期间，打开射频电源；纯铝溅射，有时因氧化问题而产生靶中毒，都会导致靶材发红甚至开裂，关键有时候根本不起辉。做氧化铝陶瓷膜为啥不考虑做反应镀膜，纯铝靶材+氧气？
反应镀膜方法是挺好的，但是做致密的薄膜工艺难度大，反而没有CVD做的好。
现在我们想用氧化铝靶材直接溅射，用射频在将氧化铝溅射下来，在实验过程中，发现靶材厚度、靶材密度都对溅射有影响，所谓我才问其中的原因。
我询问的3家靶材制造商，都是标记致密度大于等于80
，
1、靶材密度导致溅射不起辉原因？
2、材料商都标记致密度大于等于80，实在规避风险？还是氧化物靶材溅射有通性？
我们已经溅射下来了，但是靶材的致密度在78左右。我们用的致密度95的氧化铝靶材，一直溅射不下来，这是什么原因？