介孔二氧化硅纳米粒合成时的絮状沉淀是怎么回事
参考一篇文献的合成步骤：0.5gCTAB用240ml水溶解，剧烈搅拌，加入1.8ml 2M NaOH，加热至80摄氏度30min，缓慢加入2.5mlTEOS，搅拌2h（在这时就出现白色絮状物了）等停止搅拌就沉淀了。然后离心得到白色固体，用乙醇冲洗3次，将产物重新分散在300ml 硝酸铵溶液中和乙醇溶液（100ml）中，75摄氏度回流24h，最后干燥。
加了TEOS后就出现白色沉淀，感觉应该是胶体啊，怎么还能有沉淀呢，听一位师姐也说不会分层的。我就是一个换方向到这儿的小白，查了很多资料没搞懂，求大佬不吝赐教。
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京公网安备 11010802022153号
文献中有好多合成介孔二氧化硅的，可以换一种方法试试，好想你这个合成过程中加氢氧化钠后少了一种试剂吧
TEOS加快点儿，搅拌也快点儿
好的，谢谢我多试几次
，
我已经反复试过快速滴和慢速一滴一滴地滴TEOS，但都有沉淀生成，能有大神支个招吗？
楼主最后怎么解决呢 我也遇到同样的问题
个人理解，反应太剧烈了产生的二氧化硅颗粒比较大才出现沉淀，催化剂选氢氧化钠或氨水影响不大，浓度才是关键，氢氧化钠添加量降低十倍，反应温度降低为40度，搅拌不宜太剧烈