原子层沉积制备氧化物薄膜
我主要用原子层沉积（ALD）制备氧化物，比如氧化铝、氧化铪、氧化锆、氧化钛、氮化钛；最近在给一家公司做技术服务的时候，发现生长样品氧化铝粗糙度0.3nm，但是氧化铪，氧化锆的有2nm，可能是什么原因？可以点我头像具体技术交流，谢谢
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赡苊挥型耆韵尬剑憧梢允允猿rO2的时候，吸附时间长一些，以及剂量给多一些 。O源也可以适当增加，
。