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氢氟酸蚀刻二氧化硅的条件:时间,浓度

作者 妮欧
来源: 小木虫 250 5 举报帖子
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本人用二氧化硅模板制备碳中空球,想要用FH蚀刻掉二氧化硅模板,请问各位具体的蚀刻时间,温度以及HF的浓度是多少呢,谢谢 返回小木虫查看更多

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  • 精华评论
  • skyeele

    李亚栋老师是15wt%的浓度,48个小时

  • fyb51920

    中间需不需要更换氢氟酸

  • fyb51920

    还有可不可以使用超声加速分散

  • henulch

    引用回帖:
    2楼: Originally posted by skyeele at 2019-04-14 14:21:23
    李亚栋老师是15wt%的浓度,48个小时

    您好,可以提供一下DOI吗?非常感谢

  • oyyp86462

    25-30℃,15%一下浓度  HF和二氧化硅反应会生成不溶物氟硅酸盐,最好超声分散。

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