本人用二氧化硅模板制备碳中空球,想要用FH蚀刻掉二氧化硅模板,请问各位具体的蚀刻时间,温度以及HF的浓度是多少呢,谢谢 返回小木虫查看更多
李亚栋老师是15wt%的浓度,48个小时
中间需不需要更换氢氟酸
还有可不可以使用超声加速分散
25-30℃,15%一下浓度 HF和二氧化硅反应会生成不溶物氟硅酸盐,最好超声分散。
李亚栋老师是15wt%的浓度,48个小时
中间需不需要更换氢氟酸
还有可不可以使用超声加速分散
您好,可以提供一下DOI吗?非常感谢
,
25-30℃,15%一下浓度 HF和二氧化硅反应会生成不溶物氟硅酸盐,最好超声分散。