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妮欧

金虫 (正式写手)

[求助] 氢氟酸蚀刻二氧化硅的条件:时间,浓度 已有2人参与

本人用二氧化硅模板制备碳中空球,想要用FH蚀刻掉二氧化硅模板,请问各位具体的蚀刻时间,温度以及HF的浓度是多少呢,谢谢
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skyeele

金虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

李亚栋老师是15wt%的浓度,48个小时
2楼2019-04-14 14:21:23
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fyb51920

新虫 (初入文坛)

中间需不需要更换氢氟酸

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3楼2020-05-28 09:05:02
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fyb51920

新虫 (初入文坛)

还有可不可以使用超声加速分散

发自小木虫Android客户端
4楼2020-05-28 09:06:37
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henulch

金虫 (小有名气)


引用回帖:
2楼: Originally posted by skyeele at 2019-04-14 14:21:23
李亚栋老师是15wt%的浓度,48个小时

您好,可以提供一下DOI吗?非常感谢。
5楼2020-11-26 09:39:58
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oyyp86462

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

25-30℃,15%一下浓度  HF和二氧化硅反应会生成不溶物氟硅酸盐,最好超声分散。
6楼2021-01-18 13:17:48
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