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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料工程 » 其他 » 氢氟酸蚀刻二氧化硅的条件：时间，浓度
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妮欧

金虫 (正式写手)

[求助] 氢氟酸蚀刻二氧化硅的条件：时间，浓度 已有2人参与

本人用二氧化硅模板制备碳中空球，想要用FH蚀刻掉二氧化硅模板，请问各位具体的蚀刻时间，温度以及HF的浓度是多少呢，谢谢
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1楼 2019-04-08 20:52:51
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skyeele

金虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

李亚栋老师是15wt%的浓度，48个小时
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2楼2019-04-14 14:21:23
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fyb51920

新虫 (初入文坛)
中间需不需要更换氢氟酸

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3楼2020-05-28 09:05:02
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fyb51920

新虫 (初入文坛)
还有可不可以使用超声加速分散

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4楼2020-05-28 09:06:37
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henulch

金虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by skyeele at 2019-04-14 14:21:23
李亚栋老师是15wt%的浓度，48个小时

您好，可以提供一下DOI吗？非常感谢。
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5楼2020-11-26 09:39:58
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oyyp86462

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

25-30℃，15%一下浓度  HF和二氧化硅反应会生成不溶物氟硅酸盐，最好超声分散。
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6楼2021-01-18 13:17:48
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