求助一下小木虫上的朋友：
    我的实验目的是这样的，将溅射在硅基底表面的一层钛膜（钛膜厚度为500nm）放在80°C的H2O2溶液（H2O2溶液的质量分数为15%）中反应，使钛膜氧化成TiO2的膜。
    我的实验遇到的问题是这样的，如果直接将溅射完的钛膜和80°C的H2O2反应，实验很难进行。只有使钛膜的表面有略微的粗糙化才能和H2O2发生氧化反应。
    我之前对钛膜进行过酸化处理来使其表面粗糙化。用稀释50倍和100倍的HF（HF的质量分数为49%），腐蚀的时间是1秒。但是稀释后的HF腐蚀速度非常快，腐蚀的速率也不容易控制。而且溅射上的钛膜很薄（钛膜厚度为500nm），这样就更增加了腐蚀的困难。
    文献上有用HF和硝酸的混酸来使钛片的表面粗糙化的，但是硝酸对硅片是有腐蚀的，所以这个方法也不适用我这个实验。
    请有这方面经验的老师和同学赐教。谢谢。 返回小木虫查看更多