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小木虫论坛-学术科研互动平台» 网络生活区» 有奖问答 » 有奖问答完结子版 » 钛膜表面略微粗糙化
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wuli05_li

木虫 (小有名气)

[求助] 钛膜表面略微粗糙化

求助一下小木虫上的朋友：
    我的实验目的是这样的，将溅射在硅基底表面的一层钛膜（钛膜厚度为500nm）放在80°C的H2O2溶液（H2O2溶液的质量分数为15%）中反应，使钛膜氧化成TiO2的膜。
    我的实验遇到的问题是这样的，如果直接将溅射完的钛膜和80°C的H2O2反应，实验很难进行。只有使钛膜的表面有略微的粗糙化才能和H2O2发生氧化反应。
    我之前对钛膜进行过酸化处理来使其表面粗糙化。用稀释50倍和100倍的HF（HF的质量分数为49%），腐蚀的时间是1秒。但是稀释后的HF腐蚀速度非常快，腐蚀的速率也不容易控制。而且溅射上的钛膜很薄（钛膜厚度为500nm），这样就更增加了腐蚀的困难。
    文献上有用HF和硝酸的混酸来使钛片的表面粗糙化的，但是硝酸对硅片是有腐蚀的，所以这个方法也不适用我这个实验。
    请有这方面经验的老师和同学赐教。谢谢。
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跳出三界外，不在五行中。
1楼 2013-01-07 10:43:50
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wolfghost

版主 (知名作家)

优秀版主优秀版主优秀版主优秀版主优秀版主

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
wuli05_li: 金币+10, 博学EPI+1, ★★★很有帮助, 很有帮助 谢谢 2013-01-07 12:37:42
06233053: 金币+10, 楼主要求 2013-01-07 12:43:14
既然“钛膜很薄（钛膜厚度为500nm）”
建议楼主，先把硅基底表面粗化后再溅射钛膜，可以免去后继钛膜的粗化。
你看是否可以尝试
赞一下 回复此楼

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wuli05_li
大刀向鬼子的头上砍去！ChopJapstoDeath!
4楼2013-01-07 11:49:42
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普通回帖

hummerrr

新虫 (正式写手)
加油
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不惧死，何惧生
2楼2013-01-07 10:52:35
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wuli05_li

木虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by hummerrr at 2013-01-07 10:52:35
加油

谢谢
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跳出三界外，不在五行中。
3楼2013-01-07 10:54:16
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wuli05_li

木虫 (小有名气)
送鲜花一朵
引用回帖:
4楼: Originally posted by wolfghost at 2013-01-07 11:49:42
既然“钛膜很薄（钛膜厚度为500nm）”
建议楼主，先把硅基底表面粗化后再溅射钛膜，可以免去后继钛膜的粗化。
你看是否可以尝试

非常感谢，你的帮助对我很有帮助，谢谢。
赞一下 回复此楼
跳出三界外，不在五行中。
5楼2013-01-07 12:43:23
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