直流等离子体溅射制备金属膜
基片与靶材之间距离为什么要合适，为什么不能过近，近了的话，通过控制溅射时间来处理膜的厚度不行么，会造成不良影响么？？
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基片与靶材之间距离太近时，离子对基片表面的轰击可以损坏膜层，太远则偏离了最佳溅射距离制备的膜层结合力差（因为离子超过平均自由程会通过碰撞损失能量），