曝氧量~真空度、氧气吸附、吸附公式等问题
最近在调研氧气在固体（硅）表面的吸附问题（主要调研吸附量~真空度的关系，也就是想说明在10-6~10-7 Torr左右表面还有氧气吸附，最好有吸附公式）。
1. 文献中多有提到曝氧量概念，英文一般为oxygen exposure，单位是 Langmuir (1 L = 1 X 10-6 Torr s). 搞不明白，曝氧量与真空度的关系是什么呢？
2. 有没有氧气在硅上吸附量~真空度的关系式（吸附公式）？其他固体也可以吧。附个文献。
本求助截止于2012.2.23晚9点~~~~~~
望高人指点。
[ Last edited by 明光 on 2012-2-20 at 09:23 ]
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京公网安备 11010802022153号
关于曝氧量，了解如下：
在表面科学中，用L(langmuir)表示气体在样品表面的暴露量，定义：
1L = 10-6 torr （1torr等于1毫米汞柱压强=133Pa）
当系统压力为10-6 torr ，通入某气体的时间为1秒，则暴露量就是1L，