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明光

木虫 (著名写手)

[求助] 曝氧量~真空度、氧气吸附、吸附公式等问题

最近在调研氧气在固体(硅)表面的吸附问题(主要调研吸附量~真空度的关系,也就是想说明在10-6~10-7 Torr左右表面还有氧气吸附,最好有吸附公式)。
1. 文献中多有提到曝氧量概念,英文一般为oxygen exposure,单位是 Langmuir (1 L = 1 X 10-6 Torr s). 搞不明白,曝氧量与真空度的关系是什么呢?
2. 有没有氧气在硅上吸附量~真空度的关系式(吸附公式)?其他固体也可以吧。附个文献。

本求助截止于2012.2.23晚9点~~~~~~
望高人指点。

[ Last edited by 明光 on 2012-2-20 at 09:23 ]
心平气和,谦虚谨慎,创新上进!
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明光

木虫 (著名写手)

关于曝氧量,了解如下:

在表面科学中,用L(langmuir)表示气体在样品表面的暴露量,定义:
1L = 10-6 torr  (1torr等于1毫米汞柱压强=133Pa)
当系统压力为10-6 torr ,通入某气体的时间为1秒,则暴露量就是1L。
心平气和,谦虚谨慎,创新上进!
2楼2012-02-21 16:37:36
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