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明光木虫 (著名写手)
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[求助]
曝氧量~真空度、氧气吸附、吸附公式等问题
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最近在调研氧气在固体（硅）表面的吸附问题（主要调研吸附量~真空度的关系，也就是想说明在10-6~10-7 Torr左右表面还有氧气吸附，最好有吸附公式）。 1. 文献中多有提到曝氧量概念，英文一般为oxygen exposure，单位是 Langmuir (1 L = 1 X 10-6 Torr s). 搞不明白，曝氧量与真空度的关系是什么呢？ 2. 有没有氧气在硅上吸附量~真空度的关系式（吸附公式）？其他固体也可以吧。附个文献。  本求助截止于2012.2.23晚9点~~~~~~望高人指点。 [ Last edited by 明光 on 2012-2-20 at 09:23 ] |
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明光
木虫 (著名写手)
- 应助: 17 (小学生)
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- 帖子: 1250
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- 虫号: 199844
- 注册: 2006-02-27
- 专业: 微/纳机械系统
2楼2012-02-21 16:37:36