【讨论】AAO/Ti/Si+电沉积+Ni nanowires
最近在做硅基上的AAO模板 ,打算直接在硅片电沉积Ni纳米线,一直郁闷的是AAO/Si的导电性问题,有文献上是在硅片上先镀一层Ti,然后镀铝,铝的阳极氧化完成后在继续氧化,使阻挡层溶解完,直接电沉积Ni纳米线。纳闷的是Ti也会氧化的哈 ,二氧化钛的导电性貌似也不好的吧 ,而且文献上讲的电位为-0.9v。
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最近在做硅基上的AAO模板 ,打算直接在硅片电沉积Ni纳米线,一直郁闷的是AAO/Si的导电性问题,有文献上是在硅片上先镀一层Ti,然后镀铝,铝的阳极氧化完成后在继续氧化,使阻挡层溶解完,直接电沉积Ni纳米线。纳闷的是Ti也会氧化的哈 ,二氧化钛的导电性貌似也不好的吧 ,而且文献上讲的电位为-0.9v。
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Ti是为了提高Al与硅的粘结性,AAO/Si导电性不是问题,AAO很容易从硅片上脱落
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你做过吗?最近在做电沉积,貌似沉积不上,气泡倒是很多,氢气貌似在镍还原之前析出来了,悲剧的一米,模板上好多肉眼都能看到的小坑。。。
那是你的模板被腐蚀了兄弟
我觉得应该是产生气泡时形成的吧 。。
我也做过,也没沉进去
你以前怎么做的?
也是直接在硅片蒸铝做AAO