参考文献：Y.C.Lin,Y.C.Jian,J.H.Ji.. A study on the wet etching behavior of AZO (ZnO:Al) transparent conducting film [J]. AppliedSurfaceScience,2008，(254): 2671-2677
利用TMAH溶液对所制备的AZO薄膜进行刻蚀，得到不同浓度的TMAH溶液在不同的温度下的腐蚀率，其中在TMAH：H2O＝2.38：97.62的溶液中，当温度为45℃时，样品的腐蚀率为22nm/min
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参考文献：Y.C.Lin,Y.C.Jian,J.H.Ji.. A study on the wet etching behavior of AZO (ZnO:Al) transparent conducting film [J]. AppliedSurfaceScience,2008，(254): 2671-2677
利用TMAH溶液对所制备的AZO薄膜进行刻蚀，得到不同浓度的TMAH溶液在不同的温度下的腐蚀率，其中在TMAH：H2O＝2.38：97.62的溶液中，当温度为45℃时，样品的腐蚀率为22nm/min
ITO湿法腐蚀 参考：
https://www.2ic.cn/html/26/t-310026.html
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