请问等离子清洗后的玻璃表面沉积物+有效至5月5日
在使用等离子清洗机(PLASMA)的过程中发现,当反应气体流量减小,进而轰击强度增加的过程中,待处理的玻璃表面形成了一层5-20纳米的沉积物。我们本来的目的是要将玻璃表层去除5-10纳米,结果反而增加了。增加的这层东西外观上看不出来和玻璃本体材料有何区别,不经过测量真是发现不了。后来经过反复的实验和各种测试方法验证,确实证明增加了厚度。
我们采用的是氩气作为反应气体,流量为5SCCM,轰击时间30分钟,处理的材料为一种玻璃材质。
请问各位有经验的朋友,这种现象怎么造成的,新增的东西是什么,怎么经过调整克服它?
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京公网安备 11010802022153号
楼主的设备中是否加装了栅极,从而引起了玻璃衬底的沾污?
我在看PLASMA的MANUAL里面没有提到有安装栅极呢,是不是镀膜机里面用到的。如果是栅极污染是怎么样的呢
栅极材料选择不好时会污染衬底。因为等离子体中的粒子轰击栅极也会溅射下来东西。另外新设备刚用的时候如果没很好清洗干净也会带来沾污,