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【求助】磁控溅射自偏压问题

作者 yjyang07: 来源: 小木虫 900 18 举报帖子

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大家似乎对磁控溅射自偏压问题不是很care
请教大家：他的物理意义是什么？是交流的还是直流的？做实验的时候发现自偏压在开始溅射的时候较大，一会就变小了，为什么？？返回小木虫查看更多

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精华评论

cjw796

自溅射？没听说过，也没法讨论了。
引用回帖:
Originally posted by yjyang07 at 2009-9-16 17:27:
还有一个问题讨论下：所谓的“自溅射”到底是什么意思？是什么离子溅射到样品上了？为什么？
yjyang07

呵呵好像是“再溅射”
moxming

引用回帖:
Originally posted by cjw796 at 2009-9-16 17:05:
这个说法是假设没有自偏压的情况，当然靶的基片之间是不对称的，所以有可能溅射的不会被完全反溅射，但肯定可以保证溅射产率会很低。

既然大家还不明白自偏压的产生和物理意义，我就详细来说说。
标准的射频电 ...

嗯嗯，很不错！我再思考思考哈，谢谢您
，
cjw796

再溅射“repsputtering”这个名词在ion beam milling中听说过，就是说被刻蚀出来的原子又被溅射到样品的其他部分，在普通溅射中没有听说过，或许你是说反溅射吧。
引用回帖:
Originally posted by yjyang07 at 2009-9-17 08:16:
呵呵好像是“再溅射”
在天涯

可能是交流电流于电压不同步应起的仅供参考
zdliang83

repsputtering 也就是经常说到的二次溅射在溅射的过程中基片会受到阴离子的轰击将沉积的东西被重新击打出来从而造成薄膜的不均匀性和沉积速率的降低这就是有的设备采用偏轴的一个原因
cjw796

what does "偏轴" mean ?
引用回帖:
Originally posted by zdliang83 at 2009-9-18 20:55:
repsputtering 也就是经常说到的二次溅射在溅射的过程中基片会受到阴离子的轰击将沉积的东西被重新击打出来从而造成薄膜的不均匀性和沉积速率的降低这就是有的设备采用偏轴的一个原因
zdliang83

引用回帖:
Originally posted by cjw796 at 2009-9-19 01:28:
what does "偏轴" mean ?

所谓偏轴就是使基片的法线方向和电场的方向偏离一定的角度溅射。。