光致发光技术是研究固体中电子状态、电子跃迁过程和电子-晶格相互作用等物理问题的一种常用方法，具有灵敏度高、样品制备和数据采集简单、对样品
的破坏性小等优点。其基本原理是：半导体材料受到光的激发时，电子产生由低能级向高能级的跃迁，产生电子-空穴对，形成非平衡载流子。这种处于激发态
的电子在半导体中运动一段时间后，又回复到较低的能量状态，并发生电子-空穴对的复合。非平衡电子可以直接越过禁带与价带空穴复合，也可以在被禁带中的定域态俘获后再与空穴复合。复合可以是辐射复合即发光，或者非辐射的表面复合、俄歇复合和发射多声子的复合。复合过程中，电子-空穴对如果以光的形式释放出多余的能量就称为光致发光。基于测量方式的不同，光致发光谱的研究实际上还可分为发射光谱和激发光谱两类。前者是一固定频率（或频域）入射光激发下半导体发光能量(或强度)按频率的分布：后者是指发光光谱某一谱线或谱带强度（或积分发光强度）随激发光频率的改变。由此可见，发射光谱显示一定频率光激发下半导体发光的分谱特征，对研究与激发及辐射复合过程有关的半导体电子态，揭示辐射复合发光的物理过程有重要意义；而激发光谱则表示对某一频率发光起作用的激发光的频率特征，因而对分析发光的激发过程、激发机制有更重要的意义。
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我想问的是 为什么会出现峰？

峰是一种集中的表现，说明某个能量的光出来的多。可能是自由激子峰、束缚激子峰、DAP峰，等等，这些都反映了特定的复合机制。

说明对某特定波长的光比较敏感，对这个波吸收最敏感

讲解的很详细

不错，很透彻