【求助】二氧化硅与HF反应相关问题
请问：哪位学长知道二氧化硅与HF反应的最低浓度，实际反应需要过量多少呢？反应的最佳条件是什么。或者有相关论文推荐也行。多谢！
[ Last edited by li-f on 2009-4-14 at 21:29 ]
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应该是1：4的浓度反应吧，嘿嘿帮忙顶一下了
楼上的谢谢了。
理论上是1：4，我觉得实际中应该是氢氟酸过量些才好把，你去查查相关的文献资料把
光刻中的气相氟化氢与二氧化硅反应的研究
洪啸吟，郭永宁 - 硅酸盐学报, 1992 - cqvip.com
第2o卷第5期硅酸盐学报Vo1．20，No．5 1992年10．,9 JOURNAL OF THE CHINESE CERAMIC SOCIET．Y Oq~ober，1992
q 光刻中的气相氟化氢与二氧化硅反应的研究洪啸吟李钟哲郭永一／董桂荣
谢谢
，
谢谢！
我们以前做的时候是按照1:4的比例做的，试验中，氢氟酸稍过量，同时要注意，四氟化硅极易挥发，实验台要有良好通风的装置，