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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 工艺技术 » 工艺设计 » 【求助】二氧化硅与HF反应相关问题
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li-f

木虫 (小有名气)

[交流] 【求助】二氧化硅与HF反应相关问题

请问：哪位学长知道二氧化硅与HF反应的最低浓度，实际反应需要过量多少呢？反应的最佳条件是什么。或者有相关论文推荐也行。多谢！

[ Last edited by li-f on 2009-4-14 at 21:29 ]
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1楼 2009-04-14 10:53:13
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lukq2041

木虫 (著名写手)
★
张小青(金币+1,VIP+0):谢谢应助~ 4-15 12:09
应该是1：4的浓度反应吧，嘿嘿帮忙顶一下了
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2楼2009-04-14 12:37:16
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li-f

木虫 (小有名气)
引用回帖:
Originally posted by lukq2041 at 2009-4-14 12:37:
应该是1：4的浓度反应吧，嘿嘿帮忙顶一下了

楼上的谢谢了。
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3楼2009-04-14 21:28:56
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shitou0028

铜虫 (小有名气)
★
张小青(金币+1,VIP+0):谢谢应助~ 4-15 12:09
理论上是1：4，我觉得实际中应该是氢氟酸过量些才好把，你去查查相关的文献资料把
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野花不种年年有，烦恼无根日日生
4楼2009-04-15 12:03:18
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沧智

铁杆木虫 (文坛精英)
★ ★
张小青(金币+2,VIP+0):谢谢~希望对楼主有帮助~呵~遇到这种问题文献比百度有用多了 4-15 12:50
光刻中的气相氟化氢与二氧化硅反应的研究
洪啸吟，郭永宁 - 硅酸盐学报, 1992 - cqvip.com
第2o卷第5期硅酸盐学报Vo1．20，No．5 1992年10．,9 JOURNAL OF THE CHINESE CERAMIC SOCIET．Y Oq~ober，1992
q 光刻中的气相氟化氢与二氧化硅反应的研究洪啸吟李钟哲郭永一／董桂荣
赞一下(10人) 回复此楼
爱之所在，永不言弃！
5楼2009-04-15 12:42:11
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li-f

木虫 (小有名气)
引用回帖:
Originally posted by 沧智 at 2009-4-15 12:42:
光刻中的气相氟化氢与二氧化硅反应的研究
洪啸吟，郭永宁 - 硅酸盐学报, 1992 - cqvip.com
第2o卷第5期硅酸盐学报Vo1．20，No．5 1992年10．,9 JOURNAL OF THE CHINESE CERAMIC SOCIET．Y Oq~ober，1992
q 光刻 ...

谢谢!
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6楼2009-04-16 21:04:23
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li-f

木虫 (小有名气)
引用回帖:
Originally posted by shitou0028 at 2009-4-15 12:03:
理论上是1：4，我觉得实际中应该是氢氟酸过量些才好把，你去查查相关的文献资料把

谢谢！
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7楼2009-04-16 21:05:33
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wllq33853931

金虫 (正式写手)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
我们以前做的时候是按照1:4的比例做的，试验中，氢氟酸稍过量，同时要注意，四氟化硅极易挥发，实验台要有良好通风的装置，
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思想有多远，我们就能走多远。
8楼2009-09-09 19:48:37
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