请教Si-NMR谱图分析
我刚做了分子筛的定量的固体硅核磁，并含有少量的钙成分。
我师兄说从谱图上看Q3和Q2的位移在-103.2和-94.8ppm，并判定其为羟基硅，而且从谱图上来看，Q3和Q4（-111.6ppm）的比例似乎不低，也就是说，按他的说法，羟基硅有很多。可是本来我是已经在600度高温下处理过的，不应该有这么多的硅羟基呀。
注：各峰的强度和位移：
Q2 274755 -94.8 ppm
Q3 1174304 -103.2 ppm
Q4 1597679 -111.6 ppm
请问大家，是否可以确定这里的Q3和Q2是羟基的硅？通常硅羟基在多少度下可以基本去除？
多谢！
[ Last edited by willday on 2008-6-3 at 22:37 ]
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京公网安备 11010802022153号
Q位归属正确,比例用积分面积,不用强度;注意脉冲延迟一定要给够才可以定量
Q4指的地Si周围有四个O-Si,没羟基
Q2Q3判定为羟基硅的前提是不含Al,Al和OH效应是等同的,意思是说Q3可能由硅周围(OSi)3OAl造成,也可能是(OSi)3OH
至于多少度能去除,你真空烧过之后厌水气条件下密封检测H谱不就得了?没做过这个,估摸着照着800来吧
多谢！
我的材料没有Al成分，不过含有Ca和P的成分，会不会产生影响呢。
另外，我上面说的强度说错了，应该是面积，呵呵，是他们的软件上得到的值。
P Ca和Si杂配位啊
没见过列
谁告诉我怎么贴图阿？
就是直接将核磁谱图jpg文件直接显示出来，不是那种一定要付费才可下载看的附件。
不知道你的谱图测试条件是什么，应该用足够长的pd时间，确保不同的Si物种都能充分弛豫，这样比较不同Si物种的相对强度才是有意义的。
另外，可以用29Si CP/MAS NMR确定不同Si物种的归属，Q2,Q3物种连接-OH在CP/MAS 谱图中会显著增强，而Si-2A和Si-1A则不会增强。l
终于会贴图了，