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raaishenghuo

铁杆木虫 (小有名气)

[交流] 关于去除硅片氧化层 已有2人参与

3:1的H2SO4/H2O2 叫做piranha溶液,强氧化性。 硅片经此溶液处理后反而会形成氧化层,厚度可以用ellipsomertry测量,大概在0.8nm。含HF的试剂可以去除氧化层,但是同时也腐蚀硅片,增加表面粗糙度。建议用还原性气体plasma处理硅片去除氧化层,例如氢气。
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer



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用氢气去氧化层的原理是什么,是将氧化硅还原吗?那么这样也会将表面弄得到处空洞、严重粗糙化的吧?

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
2楼2014-07-07 07:16:49
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raaishenghuo

铁杆木虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by peterflyer at 2014-07-07 07:16:49
用氢气去氧化层的原理是什么,是将氧化硅还原吗?那么这样也会将表面弄得到处空洞、严重粗糙化的吧?

是一种还原作用。用plasma处理硅表面的有很多,不会增加表面粗糙度。
fighting!
3楼2014-07-08 08:55:32
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer



小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
引用回帖:
3楼: Originally posted by raaishenghuo at 2014-07-08 08:55:32
是一种还原作用。用plasma处理硅表面的有很多,不会增加表面粗糙度。...

用plasma处理硅表面应该是用氢的等离子体去还原和清理硅的表面吧。高温下的氢等离子体应该是具有极强的还原能力吧。
4楼2014-07-08 10:10:05
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静静一yi

捐助贵宾 (著名写手)

静静

HF或者BOE
15501697107
5楼2014-08-12 14:44:10
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