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zhangzhen515

新虫 (正式写手)


[交流] 【求助】除去硅表面的二氧化硅

求教各位大侠,选择什么除去硅表面的二氧化硅,HF和NaOH都可以除去二氧化硅,但是也会腐蚀硅,求童鞋支招!!
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新虫 (小有名气)



小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
引用回帖:
201703楼: Originally posted by zwj0420 at 2011-03-04 14:30:06
单晶硅用氢氟酸刻蚀,你控制浓度和时间啦,这个就是生产太阳能电池片的刻蚀工序。

这位仁兄,我也是做太阳能电池片的,我用氢氟酸刻蚀完二氧化硅后,眼看着是银灰色的硅的颜色,可是放在放大镜下看,大概放大了7倍左右,看的却是黄色的,上面还有很多小亮点,不知道是怎么回事,还望大师指导啊~~
13楼2013-03-26 11:52:20
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普通回帖

xiaowenp

铁虫 (小有名气)


★ ★
zhangzhen515(金币+1):谢谢参与
blueboy(金币+1): 鼓励应助 2011-03-04 10:30:06
用HF酸,由于SiO2在表面,所以首先除去的是SiO2,当然也不可避免有少部分硅会腐蚀。但是该方法还是效果比较好的
2楼2011-03-03 11:27:42
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zwj0420

铜虫 (初入文坛)


★ ★
zhangzhen515(金币+1):谢谢参与
大蓝猫5558(金币+1): 谢谢参与! 2011-03-04 16:43:46
单晶硅用氢氟酸刻蚀,你控制浓度和时间啦,这个就是生产太阳能电池片的刻蚀工序。
3楼2011-03-04 14:30:06
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liang8887

至尊木虫 (文坛精英)



zhangzhen515(金币+1):谢谢参与
控制量
4楼2011-03-04 14:38:40
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LL868890

木虫 (著名写手)



zhangzhen515(金币+1):谢谢参与
我来学习的
5楼2011-03-04 14:41:09
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东方龙

金虫 (正式写手)



zhangzhen515(金币+1):谢谢参与
硅和氢氧化钠反映困难,可以用氢氧化钠
6楼2011-03-04 14:42:19
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shenjerry

至尊木虫 (职业作家)



zhangzhen515(金币+1):谢谢参与
zhangzhen515(金币+1): 2011-03-06 17:18:18
zhangzhen515(金币+2): 多谢了哈~ 2011-03-06 17:19:52
有试过超声波吗?
7楼2011-03-04 15:37:34
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tangbohejin

木虫之王 (文学泰斗)



zhangzhen515(金币+1):谢谢参与
用氢氧化钠最好---
8楼2011-03-04 17:16:08
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tangbohejin

木虫之王 (文学泰斗)


用氢氧化钠最好---
9楼2011-03-04 17:20:57
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zwj0420

铜虫 (初入文坛)


说一下HF和si不反应的,但是NaoH和si反应的,
Si+2NaOH+H2O→Na2SiO3 +2H2
在制绒工序HF,CrO3的主要作用是起氧化,HF的作用是去除氧化层,二者结
合在一块使得硅片不断的剥离反应。单独一样化学药品是不与硅反应的。
总的反应式为:3Si+2H2Cr2O7+18HF=3H2SiF6+2Cr2O3+8H2O
也就是说单独的si和HF不反应的,你要用NaOH也可以,但是浓度要低,用超声波清洗,sio2主要在硅片的表层,这样就一起去除了。
10楼2011-03-05 10:47:45
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zhangzhen515

新虫 (正式写手)


引用回帖:
Originally posted by shenjerry at 2011-03-04 15:37:34:
有试过超声波吗?

没有试过,实验室没有装备....
11楼2011-03-06 17:18:48
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wwwplay

金虫 (小有名气)


可以考虑用元硅酸钠试试
12楼2011-03-08 13:37:51
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简单回复
2015-03-26 10:57   回复  
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