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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 精细化工 » 【求助】除去硅表面的二氧化硅
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zhangzhen515

新虫 (正式写手)

[交流] 【求助】除去硅表面的二氧化硅

求教各位大侠，选择什么除去硅表面的二氧化硅，HF和NaOH都可以除去二氧化硅，但是也会腐蚀硅，求童鞋支招！！
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1楼 2011-03-03 10:22:05
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zhangzhen515

新虫 (正式写手)
引用回帖:
Originally posted by shenjerry at 2011-03-04 15:37:34:
有试过超声波吗？

没有试过，实验室没有装备....
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11楼2011-03-06 17:18:48
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xiaowenp

铁虫 (小有名气)
★ ★
zhangzhen515(金币+1):谢谢参与
blueboy(金币+1): 鼓励应助 2011-03-04 10:30:06
用HF酸，由于SiO2在表面，所以首先除去的是SiO2，当然也不可避免有少部分硅会腐蚀。但是该方法还是效果比较好的
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2楼2011-03-03 11:27:42
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zwj0420

铜虫 (初入文坛)
★ ★
zhangzhen515(金币+1):谢谢参与
大蓝猫5558(金币+1): 谢谢参与！ 2011-03-04 16:43:46
单晶硅用氢氟酸刻蚀，你控制浓度和时间啦，这个就是生产太阳能电池片的刻蚀工序。
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3楼2011-03-04 14:30:06
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东方龙

金虫 (正式写手)
★
zhangzhen515(金币+1):谢谢参与
硅和氢氧化钠反映困难，可以用氢氧化钠
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6楼2011-03-04 14:42:19
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