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【求助】除去硅表面的二氧化硅
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zhangzhen515
新虫
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[交流]
【求助】除去硅表面的二氧化硅
求教各位大侠,选择什么除去硅表面的二氧化硅,HF和NaOH都可以除去二氧化硅,但是也会腐蚀硅,求童鞋支招!!
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2011-03-03 10:22:05
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东方龙
金虫
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虫号: 1159336
★
zhangzhen515(金币
+1
):谢谢参与
硅和氢氧化钠反映困难,可以用氢氧化钠
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6楼
2011-03-04 14:42:19
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xiaowenp
铁虫
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★ ★
zhangzhen515(金币
+1
):谢谢参与
blueboy(金币+1): 鼓励应助 2011-03-04 10:30:06
用HF酸,由于SiO2在表面,所以首先除去的是SiO2,当然也不可避免有少部分硅会腐蚀。但是该方法还是效果比较好的
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2楼
2011-03-03 11:27:42
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zwj0420
铜虫
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★ ★
zhangzhen515(金币
+1
):谢谢参与
大蓝猫5558(金币+1): 谢谢参与! 2011-03-04 16:43:46
单晶硅用氢氟酸刻蚀,你控制浓度和时间啦,这个就是生产太阳能电池片的刻蚀工序。
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3楼
2011-03-04 14:30:06
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shenjerry
至尊木虫
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★
zhangzhen515(金币
+1
):谢谢参与
zhangzhen515(金币+1): 2011-03-06 17:18:18
zhangzhen515(金币+2): 多谢了哈~ 2011-03-06 17:19:52
有试过超声波吗?
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7楼
2011-03-04 15:37:34
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