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zhangzhen515

新虫 (正式写手)


[交流] 【求助】除去硅表面的二氧化硅

求教各位大侠,选择什么除去硅表面的二氧化硅,HF和NaOH都可以除去二氧化硅,但是也会腐蚀硅,求童鞋支招!!
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shenjerry

至尊木虫 (职业作家)



zhangzhen515(金币+1):谢谢参与
zhangzhen515(金币+1): 2011-03-06 17:18:18
zhangzhen515(金币+2): 多谢了哈~ 2011-03-06 17:19:52
有试过超声波吗?
7楼2011-03-04 15:37:34
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xiaowenp

铁虫 (小有名气)


★ ★
zhangzhen515(金币+1):谢谢参与
blueboy(金币+1): 鼓励应助 2011-03-04 10:30:06
用HF酸,由于SiO2在表面,所以首先除去的是SiO2,当然也不可避免有少部分硅会腐蚀。但是该方法还是效果比较好的
2楼2011-03-03 11:27:42
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zwj0420

铜虫 (初入文坛)


★ ★
zhangzhen515(金币+1):谢谢参与
大蓝猫5558(金币+1): 谢谢参与! 2011-03-04 16:43:46
单晶硅用氢氟酸刻蚀,你控制浓度和时间啦,这个就是生产太阳能电池片的刻蚀工序。
3楼2011-03-04 14:30:06
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东方龙

金虫 (正式写手)



zhangzhen515(金币+1):谢谢参与
硅和氢氧化钠反映困难,可以用氢氧化钠
6楼2011-03-04 14:42:19
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