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【求助】除去硅表面的二氧化硅
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zhangzhen515
新虫
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虫号: 895315
[交流]
【求助】除去硅表面的二氧化硅
求教各位大侠,选择什么除去硅表面的二氧化硅,HF和NaOH都可以除去二氧化硅,但是也会腐蚀硅,求童鞋支招!!
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2011-03-03 10:22:05
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zwj0420
铜虫
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虫号: 765931
说一下HF和si不反应的,但是NaoH和si反应的,
Si+2NaOH+H2O→Na2SiO3 +2H2
在制绒工序HF,CrO3的主要作用是起氧化,HF的作用是去除氧化层,二者结
合在一块使得硅片不断的剥离反应。单独一样化学药品是不与硅反应的。
总的反应式为:3Si+2H2Cr2O7+18HF=3H2SiF6+2Cr2O3+8H2O
也就是说单独的si和HF不反应的,你要用NaOH也可以,但是浓度要低,用超声波清洗,sio2主要在硅片的表层,这样就一起去除了。
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10楼
2011-03-05 10:47:45
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xiaowenp
铁虫
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虫号: 404445
★ ★
zhangzhen515(金币
+1
):谢谢参与
blueboy(金币+1): 鼓励应助 2011-03-04 10:30:06
用HF酸,由于SiO2在表面,所以首先除去的是SiO2,当然也不可避免有少部分硅会腐蚀。但是该方法还是效果比较好的
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2楼
2011-03-03 11:27:42
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zwj0420
铜虫
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★ ★
zhangzhen515(金币
+1
):谢谢参与
大蓝猫5558(金币+1): 谢谢参与! 2011-03-04 16:43:46
单晶硅用氢氟酸刻蚀,你控制浓度和时间啦,这个就是生产太阳能电池片的刻蚀工序。
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3楼
2011-03-04 14:30:06
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东方龙
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★
zhangzhen515(金币
+1
):谢谢参与
硅和氢氧化钠反映困难,可以用氢氧化钠
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6楼
2011-03-04 14:42:19
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