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【求助】除去硅表面的二氧化硅
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zhangzhen515
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【求助】除去硅表面的二氧化硅
求教各位大侠,选择什么除去硅表面的二氧化硅,HF和NaOH都可以除去二氧化硅,但是也会腐蚀硅,求童鞋支招!!
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2011-03-03 10:22:05
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★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
引用回帖:
201703楼
:
Originally posted by
zwj0420
at 2011-03-04 14:30:06
单晶硅用氢氟酸刻蚀,你控制浓度和时间啦,这个就是生产太阳能电池片的刻蚀工序。
这位仁兄,我也是做太阳能电池片的,我用氢氟酸刻蚀完二氧化硅后,眼看着是银灰色的硅的颜色,可是放在放大镜下看,大概放大了7倍左右,看的却是黄色的,上面还有很多小亮点,不知道是怎么回事,还望大师指导啊~~
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13楼
2013-03-26 11:52:20
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xiaowenp
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★ ★
zhangzhen515(金币
+1
):谢谢参与
blueboy(金币+1): 鼓励应助 2011-03-04 10:30:06
用HF酸,由于SiO2在表面,所以首先除去的是SiO2,当然也不可避免有少部分硅会腐蚀。但是该方法还是效果比较好的
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2楼
2011-03-03 11:27:42
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zwj0420
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zhangzhen515(金币
+1
):谢谢参与
大蓝猫5558(金币+1): 谢谢参与! 2011-03-04 16:43:46
单晶硅用氢氟酸刻蚀,你控制浓度和时间啦,这个就是生产太阳能电池片的刻蚀工序。
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3楼
2011-03-04 14:30:06
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东方龙
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★
zhangzhen515(金币
+1
):谢谢参与
硅和氢氧化钠反映困难,可以用氢氧化钠
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6楼
2011-03-04 14:42:19
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