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raaishenghuo铁杆木虫 (小有名气)
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关于去除硅片氧化层 已有2人参与
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| 3：1的H2SO4/H2O2 叫做piranha溶液，强氧化性。 硅片经此溶液处理后反而会形成氧化层，厚度可以用ellipsomertry测量，大概在0.8nm。含HF的试剂可以去除氧化层，但是同时也腐蚀硅片，增加表面粗糙度。建议用还原性气体plasma处理硅片去除氧化层，例如氢气。 |
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 Si粗化 |
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