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顽皮豹

银虫 (小有名气)

[求助] 怎样判断硅片表面清洗干净?已有1人参与

各位大侠:在单晶硅清洗过程中,如何判断硅片表面是否还残留有有机物和金属杂质污染,重点是有机物,除用肉眼观察外,还可以有什么具体的方法,求各位高人指教。谢谢
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天行健君子以自强不息,地势坤君子以厚德载物
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w共xi

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖


感谢参与,应助指数 +1
天也潇潇: 金币+1, 鼓励交流 2012-12-14 21:31:31
一般经过浓硫酸、双氧水的氧化之后有机物应该除去了,关于检测有机物残留的方法很少有涉及到,更多的是后面对氧化层的一个处理,一般使用HF擦洗。你可以多看一下专利文献中关于硅片清洗的专利之类。
在科学的海边,匍匐前进。
2楼2012-12-13 16:43:25
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fenglj1803

新虫 (初入文坛)

学习了
3楼2012-12-13 19:19:56
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顽皮豹

银虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by w共xi at 2012-12-13 16:43:25
一般经过浓硫酸、双氧水的氧化之后有机物应该除去了,关于检测有机物残留的方法很少有涉及到,更多的是后面对氧化层的一个处理,一般使用HF擦洗。你可以多看一下专利文献中关于硅片清洗的专利之类。

谢谢,
天行健君子以自强不息,地势坤君子以厚德载物
4楼2012-12-16 11:48:39
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qsh354

铁杆木虫 (著名写手)

做一个简单而纯粹的人

【答案】应助回帖

如果能破坏的话,稍微薄薄的刮一层下来做个红外看一下。
回归,回归到做人的原始状态
5楼2012-12-17 11:04:37
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darlingllw

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

一般用RCA1+RCA2溶液来清洗硅片表面,RCA1配方:氨水:双氧水:水=1:1:5,其作用主要是去除有机沾污,当然还可以在RCA1之前再加一步浓硫酸双氧水清洗,可以把有机物去除得更干净。

经5%左右HF浸洗后,如果硅片表面完全脱水,则说明清洗干净了。
6楼2012-12-18 15:19:34
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顽皮豹

银虫 (小有名气)

引用回帖:
6楼: Originally posted by darlingllw at 2012-12-18 15:19:34
一般用RCA1+RCA2溶液来清洗硅片表面,RCA1配方:氨水:双氧水:水=1:1:5,其作用主要是去除有机沾污,当然还可以在RCA1之前再加一步浓硫酸双氧水清洗,可以把有机物去除得更干净。

经5%左右HF浸洗后,如果硅片 ...

嗯,谢谢,5%的HF清洗是不是浓度有点大?
天行健君子以自强不息,地势坤君子以厚德载物
7楼2012-12-19 11:08:47
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呆霸

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

清洗结束后用去离子水再洗一遍,如果硅片上基本不挂水珠,就说明洗净了
8楼2013-01-04 18:53:42
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顽皮豹

银虫 (小有名气)

引用回帖:
8楼: Originally posted by 呆霸 at 2013-01-04 18:53:42
清洗结束后用去离子水再洗一遍,如果硅片上基本不挂水珠,就说明洗净了

嗯嗯
天行健君子以自强不息,地势坤君子以厚德载物
9楼2013-01-06 18:52:40
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hjunkel

银虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by w共xi at 2012-12-13 16:43:25
一般经过浓硫酸、双氧水的氧化之后有机物应该除去了,关于检测有机物残留的方法很少有涉及到,更多的是后面对氧化层的一个处理,一般使用HF擦洗。你可以多看一下专利文献中关于硅片清洗的专利之类。

有一种叫“表面清洁度仪”的德国仪器,是用荧光性原理,探头放在单晶硅表面,几秒钟可以读出单点的表面的清洁度。  也有可以用扫描的方式把整个表面扫描出来,是有量化数据的,比起水膜法精确得多。
多动脑子,少动嘴!
10楼2016-03-29 15:59:45
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