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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 分析 » 【求助】求助采用ICP-MS测试硅片表面金属离子含量前处理方法
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晓丽

[交流] 【求助】求助采用ICP-MS测试硅片表面金属离子含量前处理方法 已有3人参与

求助采用ICP-MS测试硅片表面金属离子含量前处理方法，如果oxide很厚会有干扰吗？请各位大侠指点，多谢。
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1楼 2010-05-31 21:03:17
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静子一笑

金虫 (小有名气)
★ ★
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pplover(金币+1):感谢参与！ 2010-05-31 22:28:57
不管是不是氧化物，样品是需要消解后以离子形式存在，然后得到溶液进入ICPMS检测，硅基质的样品在处理过程中注意除硅
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2楼2010-05-31 21:41:36
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lianjingjing

金虫 (小有名气)
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pplover:这个回答够牵强。仅为顶贴么？ 2010-05-31 22:30:46
你去百度搜“ICP千问解答”看看有没有你的问题！
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3楼2010-05-31 22:24:02
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lianjingjing

金虫 (小有名气)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
不是的啊，只不过我懒得去细细查找罢了！
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4楼2010-06-01 09:17:08
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jessonkarry

金虫 (正式写手)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
待测元素如果没有挥发性的话，可以用HF消解，这样既可以除去硅，然后加硝酸除氢氟酸。
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5楼2010-06-01 09:42:31
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