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晓丽

[交流] 【求助】求助采用ICP-MS测试硅片表面金属离子含量前处理方法 已有3人参与

求助采用ICP-MS测试硅片表面金属离子含量前处理方法,如果oxide很厚会有干扰吗?请各位大侠指点,多谢。
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lianjingjing

金虫 (小有名气)

★
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不是的啊,只不过我懒得去细细查找罢了!
4楼2010-06-01 09:17:08
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查看全部 5 个回答

静子一笑

金虫 (小有名气)

★ ★
小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
pplover(金币+1):感谢参与! 2010-05-31 22:28:57
不管是不是氧化物,样品是需要消解后以离子形式存在,然后得到溶液进入ICPMS检测,硅基质的样品在处理过程中注意除硅
2楼2010-05-31 21:41:36
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lianjingjing

金虫 (小有名气)

★
小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
pplover:这个回答够牵强。仅为顶贴么? 2010-05-31 22:30:46
你去百度搜“ICP千问解答”看看有没有你的问题!
3楼2010-05-31 22:24:02
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jessonkarry

金虫 (正式写手)

★
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待测元素如果没有挥发性的话,可以用HF消解,这样既可以除去硅,然后加硝酸除氢氟酸。
5楼2010-06-01 09:42:31
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