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顽皮豹

银虫 (小有名气)

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[求助] 怎样判断硅片表面清洗干净？已有1人参与

各位大侠：在单晶硅清洗过程中，如何判断硅片表面是否还残留有有机物和金属杂质污染，重点是有机物，除用肉眼观察外，还可以有什么具体的方法,求各位高人指教。谢谢

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天行健君子以自强不息，地势坤君子以厚德载物

1楼2012-12-13 16:18:10

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hjunkel

银虫 (小有名气)

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引用回帖:

2楼: Originally posted by w共xi at 2012-12-13 16:43:25
一般经过浓硫酸、双氧水的氧化之后有机物应该除去了，关于检测有机物残留的方法很少有涉及到，更多的是后面对氧化层的一个处理，一般使用HF擦洗。你可以多看一下专利文献中关于硅片清洗的专利之类。

有一种叫“表面清洁度仪”的德国仪器，是用荧光性原理，探头放在单晶硅表面，几秒钟可以读出单点的表面的清洁度。也有可以用扫描的方式把整个表面扫描出来，是有量化数据的，比起水膜法精确得多。