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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 专业学科区 » 能源 » 新能源 » 怎样判断硅片表面清洗干净？
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顽皮豹

银虫 (小有名气)

[求助] 怎样判断硅片表面清洗干净？ 已有1人参与

各位大侠：在单晶硅清洗过程中，如何判断硅片表面是否还残留有有机物和金属杂质污染，重点是有机物，除用肉眼观察外，还可以有什么具体的方法,求各位高人指教。谢谢
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天行健君子以自强不息，地势坤君子以厚德载物
1楼 2012-12-13 16:18:10
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w共xi

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
天也潇潇: 金币+1, 鼓励交流 2012-12-14 21:31:31
一般经过浓硫酸、双氧水的氧化之后有机物应该除去了，关于检测有机物残留的方法很少有涉及到，更多的是后面对氧化层的一个处理，一般使用HF擦洗。你可以多看一下专利文献中关于硅片清洗的专利之类。
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在科学的海边，匍匐前进。
2楼2012-12-13 16:43:25
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fenglj1803

新虫 (初入文坛)
学习了
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3楼2012-12-13 19:19:56
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顽皮豹

银虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by w共xi at 2012-12-13 16:43:25
一般经过浓硫酸、双氧水的氧化之后有机物应该除去了，关于检测有机物残留的方法很少有涉及到，更多的是后面对氧化层的一个处理，一般使用HF擦洗。你可以多看一下专利文献中关于硅片清洗的专利之类。

谢谢，
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天行健君子以自强不息，地势坤君子以厚德载物
4楼2012-12-16 11:48:39
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qsh354

铁杆木虫 (著名写手)

做一个简单而纯粹的人

【答案】应助回帖

如果能破坏的话，稍微薄薄的刮一层下来做个红外看一下。
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回归，回归到做人的原始状态
5楼2012-12-17 11:04:37
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darlingllw

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

一般用RCA1+RCA2溶液来清洗硅片表面，RCA1配方：氨水：双氧水：水=1：1：5，其作用主要是去除有机沾污，当然还可以在RCA1之前再加一步浓硫酸双氧水清洗，可以把有机物去除得更干净。

经5%左右HF浸洗后，如果硅片表面完全脱水，则说明清洗干净了。
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6楼2012-12-18 15:19:34
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顽皮豹

银虫 (小有名气)
引用回帖:
6楼: Originally posted by darlingllw at 2012-12-18 15:19:34
一般用RCA1+RCA2溶液来清洗硅片表面，RCA1配方：氨水：双氧水：水=1：1：5，其作用主要是去除有机沾污，当然还可以在RCA1之前再加一步浓硫酸双氧水清洗，可以把有机物去除得更干净。

经5%左右HF浸洗后，如果硅片 ...

嗯，谢谢，5%的HF清洗是不是浓度有点大？
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天行健君子以自强不息，地势坤君子以厚德载物
7楼2012-12-19 11:08:47
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呆霸

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

清洗结束后用去离子水再洗一遍，如果硅片上基本不挂水珠，就说明洗净了
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8楼2013-01-04 18:53:42
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顽皮豹

银虫 (小有名气)
引用回帖:
8楼: Originally posted by 呆霸 at 2013-01-04 18:53:42
清洗结束后用去离子水再洗一遍，如果硅片上基本不挂水珠，就说明洗净了

嗯嗯
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天行健君子以自强不息，地势坤君子以厚德载物
9楼2013-01-06 18:52:40
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hjunkel

银虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by w共xi at 2012-12-13 16:43:25
一般经过浓硫酸、双氧水的氧化之后有机物应该除去了，关于检测有机物残留的方法很少有涉及到，更多的是后面对氧化层的一个处理，一般使用HF擦洗。你可以多看一下专利文献中关于硅片清洗的专利之类。

有一种叫“表面清洁度仪”的德国仪器，是用荧光性原理，探头放在单晶硅表面，几秒钟可以读出单点的表面的清洁度。  也有可以用扫描的方式把整个表面扫描出来，是有量化数据的，比起水膜法精确得多。
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多动脑子，少动嘴！
10楼2016-03-29 15:59:45
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