应《网络安全法》要求，自2017年10月1日起，未进行实名认证将不得使用互联网跟帖服务。为保障您的帐号能够正常使用，请尽快对帐号进行手机号验证，感谢您的理解与支持！

24小时热门版块排行榜    

Znn3bq.jpeg
小木虫论坛-学术科研互动平台 » 专业学科区 » 能源 » 新能源 » 怎样判断硅片表面清洗干净？
121/2返回列表12下一页
查看: 3406  |  回复: 11
只看楼主 @他人 存档 新回复提醒 (忽略) 收藏    在APP中查看

顽皮豹

银虫 (小有名气)

[求助] 怎样判断硅片表面清洗干净？ 已有1人参与

各位大侠：在单晶硅清洗过程中，如何判断硅片表面是否还残留有有机物和金属杂质污染，重点是有机物，除用肉眼观察外，还可以有什么具体的方法,求各位高人指教。谢谢
回复此楼

» 猜你喜欢

» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
天行健君子以自强不息，地势坤君子以厚德载物
1楼 2012-12-13 16:18:10
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

w共xi

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
天也潇潇: 金币+1, 鼓励交流 2012-12-14 21:31:31
一般经过浓硫酸、双氧水的氧化之后有机物应该除去了，关于检测有机物残留的方法很少有涉及到，更多的是后面对氧化层的一个处理，一般使用HF擦洗。你可以多看一下专利文献中关于硅片清洗的专利之类。
赞一下 回复此楼
在科学的海边，匍匐前进。
2楼2012-12-13 16:43:25
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

fenglj1803

新虫 (初入文坛)
学习了
回复此楼
3楼2012-12-13 19:19:56
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

顽皮豹

银虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by w共xi at 2012-12-13 16:43:25
一般经过浓硫酸、双氧水的氧化之后有机物应该除去了，关于检测有机物残留的方法很少有涉及到，更多的是后面对氧化层的一个处理，一般使用HF擦洗。你可以多看一下专利文献中关于硅片清洗的专利之类。

谢谢，
回复此楼
天行健君子以自强不息，地势坤君子以厚德载物
4楼2012-12-16 11:48:39
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

qsh354

铁杆木虫 (著名写手)

做一个简单而纯粹的人

【答案】应助回帖

如果能破坏的话，稍微薄薄的刮一层下来做个红外看一下。
赞一下 回复此楼
回归，回归到做人的原始状态
5楼2012-12-17 11:04:37
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

darlingllw

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

一般用RCA1+RCA2溶液来清洗硅片表面，RCA1配方：氨水：双氧水：水=1：1：5，其作用主要是去除有机沾污，当然还可以在RCA1之前再加一步浓硫酸双氧水清洗，可以把有机物去除得更干净。

经5%左右HF浸洗后，如果硅片表面完全脱水，则说明清洗干净了。
赞一下 回复此楼
6楼2012-12-18 15:19:34
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

顽皮豹

银虫 (小有名气)
引用回帖:
6楼: Originally posted by darlingllw at 2012-12-18 15:19:34
一般用RCA1+RCA2溶液来清洗硅片表面，RCA1配方：氨水：双氧水：水=1：1：5，其作用主要是去除有机沾污，当然还可以在RCA1之前再加一步浓硫酸双氧水清洗，可以把有机物去除得更干净。

经5%左右HF浸洗后，如果硅片 ...

嗯，谢谢，5%的HF清洗是不是浓度有点大？
赞一下 回复此楼
天行健君子以自强不息，地势坤君子以厚德载物
7楼2012-12-19 11:08:47
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

呆霸

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

清洗结束后用去离子水再洗一遍，如果硅片上基本不挂水珠，就说明洗净了
赞一下 回复此楼
8楼2013-01-04 18:53:42
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

顽皮豹

银虫 (小有名气)
引用回帖:
8楼: Originally posted by 呆霸 at 2013-01-04 18:53:42
清洗结束后用去离子水再洗一遍，如果硅片上基本不挂水珠，就说明洗净了

嗯嗯
回复此楼
天行健君子以自强不息，地势坤君子以厚德载物
9楼2013-01-06 18:52:40
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

hjunkel

银虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by w共xi at 2012-12-13 16:43:25
一般经过浓硫酸、双氧水的氧化之后有机物应该除去了，关于检测有机物残留的方法很少有涉及到，更多的是后面对氧化层的一个处理，一般使用HF擦洗。你可以多看一下专利文献中关于硅片清洗的专利之类。

有一种叫“表面清洁度仪”的德国仪器，是用荧光性原理，探头放在单晶硅表面，几秒钟可以读出单点的表面的清洁度。  也有可以用扫描的方式把整个表面扫描出来，是有量化数据的，比起水膜法精确得多。
赞一下 回复此楼
多动脑子，少动嘴！
10楼2016-03-29 15:59:45
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
相关版块跳转 我要订阅楼主 顽皮豹 的主题更新
121/2返回列表12下一页
普通表情 龙 兔 虎 猫
最具人气热帖推荐 [查看全部] 作者 回/看 最后发表
[考研] 22408 270分 +4 sanjin020722 2026-04-08 5/250 2026-04-08 23:57 by GouQ
[考研] 331求调剂 +5 luoxin0706. 2026-04-08 5/250 2026-04-08 22:15 by zhouyuwinner
[考研] 一志愿厦大生物学332求调剂 +5 池池池池池池 2026-04-08 5/250 2026-04-08 21:23 by zhyzzh
[考研] 085501机械英二77总分294求调剂，接受跨专业学习 +5 守法公民亓纪 2026-04-08 5/250 2026-04-08 21:19 by bljnqdcc
[考研] 085600材料与化工301分求调剂院校 +27 刺痛jk 2026-04-06 28/1400 2026-04-08 16:16 by luoyongfeng
[考研] 求调剂 +9 月@163.com 2026-04-07 11/550 2026-04-08 14:48 by qlm5820
[考研] 0703总分331求调剂 +17 ZY-05 2026-04-04 21/1050 2026-04-08 10:16 by screening
[考研] 287求调剂 +6 Fnhc 2026-04-07 6/300 2026-04-08 10:05 by xingguangj
[考研] 调剂 +18 不逢春 2026-04-05 19/950 2026-04-07 22:04 by lijunpoly
[考研] 336材料与化工085600求调剂 +19 水星记infp 2026-04-05 22/1100 2026-04-07 21:11 by yongzhesheng
[考研] 277求调剂 数一104分 +9 瓶子PZ 2026-04-05 14/700 2026-04-07 17:52 by 蓝云思雨
[考研] 081700学硕，323分，一志愿中国海洋大学求调剂学校 +19 披星河 2026-04-04 19/950 2026-04-07 15:00 by 上岸快快
[考研] 0703求调剂383分 +9 W55j 2026-04-03 9/450 2026-04-06 06:50 by houyaoxu
[考研] 326求调剂 +3 顾若浮生 2026-04-05 3/150 2026-04-05 18:32 by 蓝云思雨
[考研] 272求调剂 +4 松柏常青5 2026-04-03 4/200 2026-04-04 17:03 by babysonlkd
[考研] 325求调剂 +4 春风不借意 2026-04-04 4/200 2026-04-04 14:46 by 湘农储能材料
[考研] 278求调剂 +6 Yy7400 2026-04-03 6/300 2026-04-04 09:53 by zhangdingwa
[考研] 本科985，专业0812分336求调剂 +4 莫莫很行 2026-04-03 4/200 2026-04-03 21:31 by zhq0425
[考研] 兽医调剂 +3 wh119216 2026-04-02 3/150 2026-04-03 19:34 by zrongyan
[考研] 366求调剂 +7 sbdnd 2026-04-03 7/350 2026-04-03 12:40 by cymywx
信息提示
关闭
请填处理意见
关闭