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潘大腿

金虫 (小有名气)

[求助] 离子辅助磁控溅射镀膜的优点有哪些 已有1人参与

离子辅助磁控溅射镀膜的优点,其可以提高膜层的那些性能,举例说明?
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清风与明月同在
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子曾经日过

铜虫 (小有名气)

离子束辅助磁控溅射镀ITO,优点
1,Ar+预处理可以有效提高基片表面清洁度,去除媳妇杂质,提高塑料几片表面活性,增加官能团种类及数量,有利于薄膜与几片形成氢键及共价键结合,提高薄膜附着力。
2,透光度增加,粒子轰击引起的能量交换和栋梁传递不断加强,几片表面的院子或原子簇将获得足够能量以克服表面势垒,形成择优取向的多晶态薄膜,因薄膜结构缺陷减少使得光子散射和漫反射的概率降低,内光电效应减弱,可见光透过率增加。
3,面电阻下降,离子束使几片表面粒子束流密度相应提高,薄膜的院子或原子团因李子轰击而获得能量,表面迁移能提高
4,
5,
6
7,
余忆童稚时能张目对日明察秋毫
3楼2014-06-20 08:46:09
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lsx2121

捐助贵宾 (小有名气)


【答案】应助回帖

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潘大腿: 金币+15, 有帮助 2014-12-06 16:39:01
离子束辅助磁控溅射分两种:
1) 常规的情况下,离子源和磁控溅射不能同时工作。因为工作压力不同
    镀膜前,用离子源进行基片清洗,提高膜层和基片的结合力。 当然也可以采用其他方式对基片清洗
    在镀膜后,用离子源对膜层进行轰击,这样可以提高膜层的致密度。
    间歇式的镀膜,先镀膜一会,用离子源轰击一下,然后在镀膜,离子源在轰击。这样可以提高膜层的致密度,打掉结合力不好的膜。 当然轰击的能量需要控制合理。

2) 离子源和磁控溅射可以同时工作,需要特殊设计,一般只有研发行业,可以用用。实际生产很难实现。究竟同时工作的效果有多少,各家说法不同。
   同时工作,最大的好处是,可以边镀膜,边轰击。提高膜层的结合力和致密度。对于磁性材料,可能会改变膜层的结构。 如果控制不好,可以镀上的膜,会被离子源轰击掉
2楼2014-06-13 00:19:28
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