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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 金属 » 表面处理 » 离子辅助磁控溅射镀膜的优点有哪些
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潘大腿

金虫 (小有名气)

[求助] 离子辅助磁控溅射镀膜的优点有哪些 已有1人参与

离子辅助磁控溅射镀膜的优点,其可以提高膜层的那些性能,举例说明?
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清风与明月同在
1楼 2014-06-04 21:20:18
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子曾经日过

铜虫 (小有名气)
离子束辅助磁控溅射镀ITO，优点
1，Ar+预处理可以有效提高基片表面清洁度，去除媳妇杂质，提高塑料几片表面活性，增加官能团种类及数量，有利于薄膜与几片形成氢键及共价键结合，提高薄膜附着力。
2，透光度增加，粒子轰击引起的能量交换和栋梁传递不断加强，几片表面的院子或原子簇将获得足够能量以克服表面势垒，形成择优取向的多晶态薄膜，因薄膜结构缺陷减少使得光子散射和漫反射的概率降低，内光电效应减弱，可见光透过率增加。
3，面电阻下降，离子束使几片表面粒子束流密度相应提高，薄膜的院子或原子团因李子轰击而获得能量，表面迁移能提高
4，
5，
6
7，
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余忆童稚时能张目对日明察秋毫
3楼2014-06-20 08:46:09
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lsx2121

捐助贵宾 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
潘大腿: 金币+15, ★有帮助 2014-12-06 16:39:01
离子束辅助磁控溅射分两种：
1） 常规的情况下，离子源和磁控溅射不能同时工作。因为工作压力不同
    镀膜前，用离子源进行基片清洗，提高膜层和基片的结合力。 当然也可以采用其他方式对基片清洗
    在镀膜后，用离子源对膜层进行轰击，这样可以提高膜层的致密度。
    间歇式的镀膜，先镀膜一会，用离子源轰击一下，然后在镀膜，离子源在轰击。这样可以提高膜层的致密度，打掉结合力不好的膜。 当然轰击的能量需要控制合理。

2） 离子源和磁控溅射可以同时工作，需要特殊设计，一般只有研发行业，可以用用。实际生产很难实现。究竟同时工作的效果有多少，各家说法不同。
   同时工作，最大的好处是，可以边镀膜，边轰击。提高膜层的结合力和致密度。对于磁性材料，可能会改变膜层的结构。 如果控制不好，可以镀上的膜，会被离子源轰击掉
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2楼2014-06-13 00:19:28
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