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离子辅助磁控溅射镀膜的优点有哪些 已有1人参与
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| 离子辅助磁控溅射镀膜的优点,其可以提高膜层的那些性能,举例说明? |
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【答案】应助回帖
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潘大腿: 金币+15, ★有帮助 2014-12-06 16:39:01
潘大腿: 金币+15, ★有帮助 2014-12-06 16:39:01
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离子束辅助磁控溅射分两种： 1） 常规的情况下，离子源和磁控溅射不能同时工作。因为工作压力不同 镀膜前，用离子源进行基片清洗，提高膜层和基片的结合力。 当然也可以采用其他方式对基片清洗 在镀膜后，用离子源对膜层进行轰击，这样可以提高膜层的致密度。 间歇式的镀膜，先镀膜一会，用离子源轰击一下，然后在镀膜，离子源在轰击。这样可以提高膜层的致密度，打掉结合力不好的膜。 当然轰击的能量需要控制合理。 2） 离子源和磁控溅射可以同时工作，需要特殊设计，一般只有研发行业，可以用用。实际生产很难实现。究竟同时工作的效果有多少，各家说法不同。 同时工作，最大的好处是，可以边镀膜，边轰击。提高膜层的结合力和致密度。对于磁性材料，可能会改变膜层的结构。 如果控制不好，可以镀上的膜，会被离子源轰击掉 |
2楼2014-06-13 00:19:28
3楼2014-06-20 08:46:09
