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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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P3HT:PCBM

木虫 (初入文坛)

[求助] 磁控溅射时RF溅射起辉1到2分钟就有很大的反馈功率,求解! 已有2人参与

新买的靶材,半导体掺杂类,用DC,50W,20min辉光一直有,阴极温度正常,而用RF,150W,一到两分钟就有很大反馈,辉光还有,但阴极会升温。用了0.3pa、0.5pa、1pa的气压都会出现这个问题。  靶材装了铜基板,但在靶面边缘处有一个被磕脱了1cm*0.5cm大小的薄片,1mm厚。把脱了的薄片放上面时还能吻合得较好。试过拿开薄片,还是不行。   请有经验的朋友,帮忙分析一下~谢谢!
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wxzx905

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

我前段时间就遇到这种情况,试着清理一下真空腔,或者看看循环水有没有问题
6楼2014-03-26 10:16:38
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西塔小西西

禁虫 (小有名气)

本帖内容被屏蔽

2楼2014-03-07 08:57:08
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P3HT:PCBM

木虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 西塔小西西 at 2014-03-07 08:57:08
一般起辉后只要调电容大小应该能把反射功率调到最小的

谢谢回复!  问题就是先前调节好了的反馈,过段时间就会跳掉,如150w的功率一下子就到了78的功率。
3楼2014-03-07 10:10:10
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尘隐土

木虫 (正式写手)

贫困区

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
P3HT:PCBM: 金币+5, 有帮助 2014-03-08 12:54:36
把气压调4~5Pa,然后慢慢往下调试看看,反馈功率很大有一部分就是你阴极有问题,检查匹配器到靶座检查一下,如果你的靶座用DC好好的,用RF不行,确定RF没问题,就增大AR流量
4楼2014-03-07 11:26:44
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