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磁控溅射时RF溅射起辉1到2分钟就有很大的反馈功率,求解!
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P3HT:PCBM
木虫
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应助: 0
(幼儿园)
金币: 1578.5
帖子: 24
在线: 10.1小时
虫号: 2671688
注册: 2013-09-22
性别: GG
专业: 等离子体物理
[
求助
]
磁控溅射时RF溅射起辉1到2分钟就有很大的反馈功率,求解!
已有2人参与
新买的靶材,半导体掺杂类,用DC,50W,20min辉光一直有,阴极温度正常,而用RF,150W,一到两分钟就有很大反馈,辉光还有,但阴极会升温。用了0.3pa、0.5pa、1pa的气压都会出现这个问题。 靶材装了铜基板,但在靶面边缘处有一个被磕脱了1cm*0.5cm大小的薄片,1mm厚。把脱了的薄片放上面时还能吻合得较好。试过拿开薄片,还是不行。 请有经验的朋友,帮忙分析一下~谢谢!
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1楼
2014-03-06 19:19:34
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2014-03-07 08:57:08
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