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chenxia_2013

金虫 (初入文坛)

[交流] 以氢氧化钠为溶剂的顶空进样，是不是不应该出现溶剂峰 已有3人参与

rt，我之前的样品是用DMF溶解的，现在的样品是0.1M氢氧化钠，是不是应该没有溶剂峰呢
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1楼 2013-11-18 12:14:00
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zzl198338

木虫 (正式写手)
★
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应该是的，这个怎么会有峰呢。
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5楼2013-11-20 11:55:40
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yjlrx

金虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
纯的0.1M氢氧化钠不会有，顶空的炉温不会很高，氢氧化钠不会分解或挥发，进入不了GC系统。
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2楼2013-11-18 13:45:47
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chenxia_2013

金虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yjlrx at 2013-11-18 13:45:47
纯的0.1M氢氧化钠不会有，顶空的炉温不会很高，氢氧化钠不会分解或挥发，进入不了GC系统。

嗯，谢谢啊，进的样品老是有两个峰，应该是DMF残留的
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3楼2013-11-18 14:44:10
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sanglaibai

木虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
引用回帖:
3楼: Originally posted by chenxia_2013 at 2013-11-18 14:44:10
嗯，谢谢啊，进的样品老是有两个峰，应该是DMF残留的...

你可以看看那个峰的时间是不是DMF，氢氧化钠是不会出峰，不过可能会有二氧化碳。。
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4楼2013-11-19 20:14:36
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