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chenxia_2013

金虫 (初入文坛)

[交流] 以氢氧化钠为溶剂的顶空进样,是不是不应该出现溶剂峰 已有3人参与

rt,我之前的样品是用DMF溶解的,现在的样品是0.1M氢氧化钠,是不是应该没有溶剂峰呢
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chenxia_2013

金虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by yjlrx at 2013-11-18 13:45:47
纯的0.1M氢氧化钠不会有,顶空的炉温不会很高,氢氧化钠不会分解或挥发,进入不了GC系统。

嗯,谢谢啊,进的样品老是有两个峰,应该是DMF残留的
3楼2013-11-18 14:44:10
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yjlrx

金虫 (小有名气)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
纯的0.1M氢氧化钠不会有,顶空的炉温不会很高,氢氧化钠不会分解或挥发,进入不了GC系统。
2楼2013-11-18 13:45:47
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sanglaibai

木虫 (小有名气)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
引用回帖:
3楼: Originally posted by chenxia_2013 at 2013-11-18 14:44:10
嗯,谢谢啊,进的样品老是有两个峰,应该是DMF残留的...

你可以看看那个峰的时间是不是DMF,氢氧化钠是不会出峰,不过可能会有二氧化碳。。
4楼2013-11-19 20:14:36
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zzl198338

木虫 (正式写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
应该是的,这个怎么会有峰呢。
5楼2013-11-20 11:55:40
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