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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳器件 » 【求助】光刻用的掩模板怎么清洗？
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newbeefans

木虫 (正式写手)

[交流] 【求助】光刻用的掩模板怎么清洗？

掩模板用了很久了， 表面脏了（残余光刻胶、灰尘、指纹之类的）
请问用什么清洗啊, IPO？丙酮？
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1楼 2011-01-04 17:42:19
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alfie237319

金虫 (初入文坛)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖
先用丙酮超声清洗20分钟，氮气吹干，再用酒精超声20分钟即可
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16楼2012-02-21 09:27:05
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