剥离法，在曝光显影之后，放一个星期之后还能镀膜然后剥离吗
请问一下，我要用剥离法得到器件结构，然后因为事情耽搁，曝光显影一个星期了，还能镀薄膜然后剥离吗？这样剥离之后性能会不会受到很大影响?或者我把显影之后的光刻胶溶掉?重新曝光可以吗？
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保险方法是把光刻胶洗掉后，重新匀胶做光刻，镀膜
如果 安全放置， 如 黄光室 一般问题不大
作业金属前，建议用氧打下表面。
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