铜片上生长石墨烯放入铜刻蚀液中表面出现大量体积较大的气泡
朋友们好!
刚刚开始做石墨烯转移,遇到了一个问题,恳请朋友们不吝回答。
在公司买的铜片两侧生长的石墨烯,其中一面儿的表面覆盖了一层400 nm厚的PMMA后,放入铜刻蚀液中,过了几个小时,样本表面出现数量较多且体积较大的气泡,因为气泡的出现会导致石墨烯破裂使得最终的样本损坏,想请问朋友们有没有以前出现过类似的情况该如何解决?
先谢谢朋友们!
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朋友们好!
刚刚开始做石墨烯转移,遇到了一个问题,恳请朋友们不吝回答。
在公司买的铜片两侧生长的石墨烯,其中一面儿的表面覆盖了一层400 nm厚的PMMA后,放入铜刻蚀液中,过了几个小时,样本表面出现数量较多且体积较大的气泡,因为气泡的出现会导致石墨烯破裂使得最终的样本损坏,想请问朋友们有没有以前出现过类似的情况该如何解决?
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你好,方便咨询下铜片两面怎么加工的石墨烯吗
换刻蚀体系,用硫酸铜+盐酸体系
静态或动态CVD生长的石墨烯膜层
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