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PDMS紫外光刻,光刻胶旋涂不均匀求助

作者 renwuchsh
来源: 小木虫 250 5 举报帖子
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求助各位大佬,PDMS表面如何做紫外光刻? 现在遇到光刻胶旋涂不均匀的问题,不明白是什么原因。求助各位大佬指导,多谢了。 返回小木虫查看更多

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  • 精华评论
  • 林强尼丹

    个人建议,可以试试这样:PDMS表面可以进行氧气plasma亲水处理,然后再旋涂光刻胶。另外,PDMS表面平整度怎样?会对旋涂有很大影响。

  • renwuchsh

    引用回帖:
    2楼: Originally posted by 林强尼丹 at 2021-06-06 18:34:31
    个人建议,可以试试这样:PDMS表面可以进行氧气plasma亲水处理,然后再旋涂光刻胶。另外,PDMS表面平整度怎样?会对旋涂有很大影响。

    PDMS粗糙度在10nm以下,粗糙度应该没什么问题。主要问题就是上面光刻胶根本甩不开

  • 核潜艇

    如果甩不开,可能因为树脂与基材的亲和力太强,加一点调节剂试试。

  • AFAGM

    您好,目前我想在PDMS上进行光刻,但在电子束光刻中效果很差,甩了导电胶也完全不聚焦,不知您是否有了解,期待您的回复,打扰了

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