以二氧化硅为模板合成多孔氮化碳，氢氟酸去除模板，去不干净怎么办
拍TEM明显感觉氮化碳上有黑色的阴影。
用20%氢氟酸超声半小时，静置5小时，重复三次，还是效果不好。
感觉二氧化硅被氮化碳包裹。
大家有什么好办法吗。
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我没看出哪里有明显的SiO2啊，我建议你做EELS或者EDS证明下元素分布哈
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