大家好，最近本人在尝试制备硅纳米线，方法如下：
（1）硅片清洗（DI H2O，乙醇，丙酮）
（2）5% HF，90 s
（3）0.02 M AgNO3/10% HF，60 s
（4）10% HF：30% H2O2 （10：1， v%），8 min
（5）35% HNO3，10 min
试了好多遍了，硅片表面没有一点变化。硅片规格：p型，100 phase，1-5 Ω cm，单面抛光。每一步都很小心，不知道为什么。
AgNO3可能有点问题，在10% HF溶液中形成了大量沉淀，不知是不是因为Ag没有在硅片表面覆盖，所以才无法刻蚀的。
刻蚀结束后，硅片表面无任何变化，抛光的一面还是可以映出倒影来。
求有经验的老师和同学指点迷津。 返回小木虫查看更多