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求问溅射lift off工艺要点

作者 jade_yang
来源: 小木虫 300 6 举报帖子
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在硅上做PT电极的图形,溅射+lift off。胶是5350,大概1-2um,Pt溅射厚度50nm,用丙酮liftoff,但是一洗就掉。
求问是什么原因?考虑做粘附层;不知道图形小有没有关系?(大小为100um*100um)
顺便想问下lift off的手法,可以晃动吗?还是一直静置。
先谢谢了!

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  • 精华评论
  • MEMSlee

    需要加粘附层Ti,还有你这个太薄了粘连一起剥离下来了。

  • jade_yang

    有dl回答吗可散金币

  • babyoflion

    2楼回答的确切,硅片做图案化pt已经是很成熟的工艺了,增粘层和打底胶去除(表面清洗)没啥问题的,但是前提你要保证显影没有问题

  • jade_yang

    引用回帖:
    2楼: Originally posted by MEMSlee at 2021-03-25 23:38:54
    需要加粘附层Ti,还有你这个太薄了粘连一起剥离下来了。

    不知道为什么内容被屏蔽,可以麻烦再回答一下吗QAQ

  • babyoflion

    2楼回答的是“可以加一层黏附层钛,你这个太薄了黏连一起掉了”

  • lvyiyilv

    得做Ti或者Cr

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