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关于席夫碱还原问题

目前使用四氢呋喃为溶剂，硼氢化钠还原亚胺，反应很好，但是发现底物本身的二聚杂质（亚胺还原处）会忽大忽小，不知道从哪里进行条件控制，有没有做过的小伙伴帮忙看一下，如何避免该杂质的产生，多谢！返回小木虫查看更多

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weihaiyixiao

1.你的二聚杂质是原料自己带过去的还是在反应的过程中产生的
2.如果是反应过程中产生的，反应的浓度和反应的温度，以及你加入硼氢化钠的方式是一次性加料还是分批控温加料，从这几个方面考察一下
ycrs2088

可以试一下氰基硼氢化钠多批次加料还原
铸剑为狸

底物和产物在THF中溶解吗？可以考虑增加溶解量，降低底物浓度来控制。
我学故我在

引用回帖:
6楼: Originally posted by 铸剑为狸 at 2021-02-24 17:54:47
底物和产物在THF中溶解吗？可以考虑增加溶解量，降低底物浓度来控制。

我们这个底物在THF中溶解性可以，不过产物溶解性会差一些，目前溶剂量已经很大了，大概55倍体积量，再继续放大的话生产上应该难以承受了，包括成本等
，
铸剑为狸

引用回帖:
7楼: Originally posted by 我学故我在 at 2021-02-25 08:17:51
我们这个底物在THF中溶解性可以，不过产物溶解性会差一些，目前溶剂量已经很大了，大概55倍体积量，再继续放大的话生产上应该难以承受了，包括成本等...

底物能反应完吗？试试增加还原剂用量