2016年上海大学纳米中心CMP课题组硕士研究生调剂信息
研究方向：纳米抛光材料及原子级表面平整技术
方向介绍：随着先进电子产品性能的不断提高，许多部件表面要求达到原子级平整。化学机械抛光（CMP）是目前几乎唯一的全局平面化加工技术，广泛应用于先进电子制造行业中产品部件（如集成电路晶圆、计算机硬盘、LED蓝宝石晶片等）表面的超精密抛光。CMP研究涉及化学、机械（摩擦学）、材料、物理等多学科领域交叉。近十年来，本课题组连续7次获得国家自然科学基金的资助，课题组与企业联系也十分紧密。本方向可培养博士研究生，对该方向的研究学习可锻炼培养学生多学科专业的知识与科研能力。
要求：
欢迎具有化学、材料或摩擦学等相关背景的学生报考，211学校、有志读博的学生优先考虑。
联系人：雷老师 021-66137104，hong_lei2005@163.com
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京公网安备 11010802022153号
老师您好，我本科毕业于黑龙江大学，应用化学专业，原报考南京大学材料学专业，总分289，英语40，政治68，数学二88，材料化学基础93，想调剂您的课题组，故此申请。谢谢老师。
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老师您好,一志愿郑州大学有机化学专业总分337，政治68，英语44,普通化学103,有机化学122。本科洛阳师范学院，化学专业，请问老师有机会调剂吗？
老师您好、我的第一志愿是郑州大学有机化学专业、总分355、对您的研究方向很感兴趣、希望老师您能考虑下我！！谢谢您……
老师您好，我是报考华东师大物理化学，总分323，英语58，阜阳师范学院，有过一年多的科研经历，对纳米材料比较了解，想调到你的课题组，希望您给我次机会！