脱TBS TMS中TBAF除去的问题
现在脱化合物上的TBS(酚羟基保护)和糖上的TMS保护,用TBAF很快就有掉了,有个相对主要的点产生,问题是,当所有保护基脱除以后,产品极性变得非常大!我没处理反应,直接上柱,DCM:MeOH=10:1-10:2的样子能走出产品点,但是浓缩后始终能看到TBAF的点。
现在困扰的我的是,不知道该如何除去TBAF,不敢用水洗,因为产品极性很大(糖上有4个羟基都是暴露的)。
或者有木有其他的脱TBS、TMS,(一次脱除)的方法,(最好能附上文献页码)柱层析能纯化即可,谢谢各位大侠! 返回小木虫查看更多
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过离子交换树脂,可以除掉TBAF。另外也可以过渗透膜
楼主你的东西怕不怕酸?耐酸的话可以用氯化氢的醇溶液脱除硅醚保护基。

将粗产品溶于乙酸乙酯中,饱和食盐水洗涤,干燥后柱层析,淋洗剂极性调到30:1,没有问题滴。
恩,就是怕酸,结构中有酯键,酸性条件下容易断
我准备试试用水洗了,主要还是怕产品溶于水,毕竟糖上羟基都暴露了
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恩,我准备试试水洗,但是还是担心产品溶于水,主要是糖上羟基都在