(NH4)2S208,(NH4)2S208-NaHSO3这两种引发剂有什么不同?氧化还原体系比(NH4)2S208单独使用有什么优点? 返回小木虫查看更多
氧化还原体系与过氧化化体系的主要差别之一为聚合温度不同,过硫酸盐一般在50度以上,而氧化还原体系可在室温或更低的温度下进行——《自由基聚合》,潘祖仁,P60
帮楼主顶 不是很懂 感觉楼上的说的也很正确吧
APS和KPS引发温度一般在乳液聚合时引发温度>70℃,氧化还原在50℃,可以一开始使用APS类引发剂,在反应后期降温至50摄氏度补加氧化还原体系用来消除体系内残余的单体
氧化还原体系与过氧化化体系的主要差别之一为聚合温度不同,过硫酸盐一般在50度以上,而氧化还原体系可在室温或更低的温度下进行——《自由基聚合》,潘祖仁,P60
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APS和KPS引发温度一般在乳液聚合时引发温度>70℃,氧化还原在50℃,可以一开始使用APS类引发剂,在反应后期降温至50摄氏度补加氧化还原体系用来消除体系内残余的单体
如果是温度的差别还好说。就是不知道会不会对聚合物分子量产生较大影响,如果想做高分子量的,常用些什么引发剂
这两个体系的引发剂都试过,产率都不是很高。我用的是水溶液聚合,反应产液用无水乙醇沉淀。产率不高的原因会不会是因为引发剂不好?
引发剂对分子量的影响主要表现在引发速率常数、引发效率和引发剂的浓度(聚合度公式),至于用哪种引发剂会得到高分子量聚合物还要综合考虑各种因素吧,感觉要做大量关于品种、用量方面的筛选和实验验证。
说白了,对具体的遴选过程我也不清楚
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两者的引发机理主要区别是什么? 后者的NaHSO3作用是什么?